エリプソメトリ、光干渉式による測定と、SCREEN独自の搬送機構を採用し、多彩なウェーハの安定的な搬送と高精度測定を実現しています。
特殊ウェーハ、超薄膜にも対応。操作方法、設置スペースなど、さまざまな課題に応える製品をご用意しています。
お送りいただいたウェーハを、無料で測定します。精度の確認をはじめ、導入検討の判断材料としてご活用ください。
お問い合わせ
「デモ申し込みフォーム」からご相談ください。
担当からご連絡
営業員・技術員が詳細なご要望をお伺いします。非対面でも対応可能です。
ウェーハ送付
ヒアリングに基づきデモ要件が決定した後、ウェーハをご送付ください。
測定
ウェーハ到着後、デモ測定を実施します。
測定データ送付
ウェーハ到着から約2週間をめどに測定データをお送りします。
40μm角の微細なエリアを高精度に測定し、従来比２倍のハイスループットを実現したハイエンドモデル。膜厚と光学定数を同時に測定でき、さらにオプションで単波長エリプソメータも搭載可能です。
通信用デバイスなどの面内多点測定に最適で、高速モードで毎時160枚のハイスループットが可能（SiO2、5ポイント測定時）。ログ保存機能を装備し、メンテナンスサポートも向上しました。
分光器にCCDイメージセンサを採用。可視光の全波長域にわたり同時に測定し、膜厚の高速・高精度な測定を実現します。レシピウイザード機能でレシピ作成を簡単にし、管理、登録数も増加しました。
鏡筒、手動XYステージ、電動レボルバ、対物レンズ、フィルタ挿入部、光源から成る顕微鏡部と分光器で構成。光ファイバー入力式CCD分光器により、コンパクトながら高い測定精度とスピードを誇ります。
■SWE 単波長エリプソメータ
膜厚20nm以下の薄膜を高精度で測定。光源は長寿命タイプのレーザーダイオードで、ランニングコスト削減に貢献します。
■SE 分光エリプソメータ
膜厚と光学定数の同時測定が可能。膜質管理が重要な工程や、薄膜材料の開発、成膜プロセス開発に適しています。
■SR 光干渉式膜厚計
最大4層までの積層膜に対応。可視光タイプ、紫外光タイプを取り揃えており、測定対象に適した条件で測定できます。
各装置共通で25種類の標準膜種レシピを搭載。
さらに、お客さまが独自に作成されたレシピも追加できるため、特殊な化合物ウェーハにも対応でき、よりフレキシブルに測定作業が行えます。
膜厚測定の幅広いニーズにしっかり対応する、測定アプリケーションを搭載。
その中でも可視光では難しいSiCエピ層の膜厚測定も、赤外領域での解析によって実現しています。
その他、薄膜測定や厚膜測定、積層膜測定、ガラス基板測定、PZT / GaN膜測定が可能です。
ウェーハ内のチップサイズや個数に影響を受けずに、ハイスピードかつ高精度での外観検査を実現。さらに、分解能の異なるレンズを同時に搭載でき、３段階の切り替えがレシピで容易に行えます。
検査レシピ作成が容易なため新規ウェーハでもすぐに検査できる、柔軟性に優れたモデル。独自の検査ヘッドと高速画像処理エンジンを搭載し、ハイスピード検査にもしっかり対応します。
独自開発の検査ヘッド搭載と、高速画像処理エンジンの改良の積み重ねにより、従来モデルと比べ約2倍※の実用処理能力を実現しました。
また、ラインセンサによる全面検査方式を採用。チップサイズや数量に依存することなく一定のスピードで検査可能なため、安定した生産に大きく貢献します。
※「ZI-3500」との比較。
実際のウェーハ画像を確認しながら容易に検査条件が設定できるため、専門のエンジニアだけでなく、オペレーターでもレシピ作成が可能です。
さらに、オプションとしてクリティカルディメンション測定機能、オーバーレイ測定機能も搭載可能。レシピ作成時に条件を設定するだけでラインアンドスペースや重ね合わせの測定も一度に行えます。
検査方式は、同じレシピ内で「Die to Die」「Cell to Cell」「Die to Reference」の3種類から自由に組み合わせて設定でき、さらに「Non-pattern検査」も行えます。
導入前に、ご指定いただいたウェーハを、実機でテスト測定/検査することができます。
また、技術・製品に関するご相談やご質問、お見積もりについてもお気軽にお問い合わせください。
